2020年10月16日

秋田化学工業 ニオブ錫薄膜生成に着手

めっき加工や表面処理を手掛ける秋田化学工業(本社=秋田県にかほ市、丹野恭行社長)は、電気めっき法を用いてニオブ錫薄膜生成技術の開発に取り組む。国際リニアコライダー(ILC)で使用するニオブ製超伝導加速空洞の内面にニオブ錫超伝導体薄膜を生成し、臨界磁場を従来のニオブ単体のものより2倍程度高める。同時に転移温度が高まるため、従来比約2倍の4ケルビンでの運転が見込まれる。超伝導加速空洞の小型化が期待される。

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