ＪＸ金属 半導体用ターゲット能力30％増強

　ＪＸ金属は22日、半導体用スパッタリングターゲットの生産能力を約30％引き上げると発表した。総額120億円を投じ、磯原工場（茨城県北茨城市）を中心とした銅・銅合金、チタン、タンタルなどのスパッタリングターゲット製造設備を増強する。海外の加工拠点への投資も検討する。2022年春以降に稼働を開始する予定。半導体市場の拡大に伴う薄膜材料の需要増加に対応する。