ＮＣＴ、酸化ガリウム量産へ　新製造法導入推進

　パワー半導体用酸化ガリウムウエハーを手掛けるノベルクリスタルテクノロジー（本社＝埼玉県狭山市、倉又朗人社長、ＮＣＴ）は、次世代パワー半導体材料である酸化ガリウムの量産で、イリジウムるつぼを使用しない酸化ガリウム結晶育成法「ドロップフェド・グロース法（ＤＧ法）」の導入を推進する。今年初めにＤＧ法で直径4インチの基板の結晶育成に成功。貴金属のイリジウムを不使用とし、コストを従来の10分の1まで低減できる見込みだ。

　まずは6インチ基板まで大口径化し、早期に主力の製造法とする考え。倉又社長は「酸化ガリウムの実用化には必須の製造法だ。早期にＤＧ法へ切り替えていく」と話す。