ＪＸ金属 半導体ターゲット増強

ＪＸ金属は10日、半導体用スパッタリングターゲットの生産能力増強のため、米国アリゾナ州メサ市に約26万平方メートルの用地を取得すると発表した。米国子会社における半導体用ターゲットの下工程の能力を、現在の2・5倍に引き上げる。全体の投資額は約120億円を見込む。そのうち用地取得と半導体ターゲットの増強費用がそれぞれ30億円、残りは新規事業に関わる費用などに充てる。稼働は2024年度以降を予定する。顧客である先端半導体メーカーによる半導体の生産増強に対応する。