2024年1月30日

JX金属、薄膜形成材料開発で新組織 2月設置

 JX金属は26日、2月1日付で技術本部技術戦略部内に「CVD・ALD材料事業推進室」を設置すると発表した。次世代半導体向けに、化学気相成長法(CVD)と原子層積層法(ALD)に対応した薄膜形成材料の開発を推進する。







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