ＪＸ金属、薄膜形成材料開発で新組織　2月設置

　ＪＸ金属は26日、2月1日付で技術本部技術戦略部内に「ＣＶＤ・ＡＬＤ材料事業推進室」を設置すると発表した。次世代半導体向けに、化学気相成長法（ＣＶＤ）と原子層積層法（ＡＬＤ）に対応した薄膜形成材料の開発を推進する。