ＪＸ金属 次世代半導体材料を増強

JX金属は18日、次世代半導体向け化学気相成長法（CVD）・原子層堆積法（ALD）材料である高純度金属化合物の能力増強を発表した。本年度下期に子会社の東邦チタニウム茅ケ崎工場（神奈川県茅ケ崎市）へ、25年度上期に日立事業所白銀地区（茨城県日立市）へ、それぞれ生産設備を導入。投資額は合計数十億円で、生産能力はサンプルレベルの年産数トンから数十トンとなる。新規のプロセスおよび材料開発に向けた設備強化も推進。次世代半導体向け材料の安定供給体制を構築し、顧客ニーズを満たす。