2024年4月11日

日本高純度化学 ニッケルフリーの貴金属めっき提案

日本高純度化学は、微細配線・高周波基板向けにニッケルめっきフリーの無電解パラジウム/金めっきを提案する。下地のニッケルめっきを省くことで、回路の配線ピッチを示すL/S(ライン&スペース)は7/8ミクロンと高密度を実現。置換と還元の2段めっきにより、性能劣化の原因となるボイド(空隙)を抑制したパラジウム皮膜とした。薬品の組成を調整し、めっきの表面への析出をコントロールすることで、幅広い被めっき材に対応できる。既に複数社とトライアルを実施しており、早期実用化を目指す。





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